Para cada altura, selecione a camada no painel Camadas e adicione todos os recursos de que a altura. Repita o procedimento para o resto das camadas por exemplo, no exemplo de design: Preparar uma bolacha por fotolitografia NOTA: Lavar a bolacha bem com metanol.
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Secagem com N2 ou ar comprimido. Aplicar ml de SU-8, fotorresiste negativo no centro do wafer e girar como se segue: Deixe o fresco wafer de RT. Aplicar ml de SU-8 fotorresiste negativo para o centro do wafer e girar como se segue: Permitir que a bolacha se arrefecer para a TA. Em seguida, alinhar recursos de cabelo cruz apostacamadas ween. Use o seguinte programa de assar a quente: Fabricar uma camada de 25 um controle usando SU-8 fotorresiste negativo.
As bolachas revestidas com silanos fluorados pode ser utilizado centenas a milhares de vezes sem re-tratamento.
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Uma camada sacrificial de 1: Um protocolo detalhado pode ainda ser encontrado no site Ligue pinos de metal para tubos e conectar-se a portas de dispositivo de entradas da linha de controle. Pressurizar as linhas de controle do dispositivo, definindo o cont fluxoRol sistema de escolha a 25 psi durante cada linha.
Deixar secar durante 1 hora. A subscription to J o VE is required to view this article.
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Physics Laboratory III
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